홈
플라즈마 기술
용어집
자주묻는질문
제품
장비 임대
서비스
대리점
참조
다운로드 영역
전시회
연락처
회사 소개
Isotropic
Independent of direction. Isotropy is undesired in etching processes for the generation of microstructures and is mostly observed in chemical etching processes.
홈
|
플라즈마 기술
|
용어집
|
자주묻는질문
|
제품
|
장비 임대
|
서비스
|
대리점
|
참조
|
다운로드 영역
|
전시회
|
연락처
|
회사 소개
© 2009 Diener electronic
Plasma systems worldwide | femtoscience.com