´가스 분자가 정해진 온도와 압력에서 다른 가스 분자와 두 번 충돌하는 사이에 통과하는 평균 거리. 다음과 같은 이유 때문에 플라즈마 생성에 중요하다. 압력이 너무 높으면(평균자유경로가 너무 짧으면) 전자와 이온이 충돌 이온화에 필요한 속도를 낼 수 없고, 압력이 너무 낮으면(평균자유경로가 너무 길면) 이온화 충돌 횟수가 너무 적어 플라즈마를 지속시킬 수 없다. 또한 다음과 같은 이유 때문에 평균자유경로 길이는 식각 공정의 등방성에 강한 영향을 준다 압력이 높을수록 자유경로 길이가 짧고, 등방성이 높을수록 물질이 제거된다.

Average distance a gas molecule passes between two collisions with other gas molecules at a given temperature and pressure. Significant for the generation of a plasma: under too high pressure (too short mean free path), electrons and ions can not build up the necessary speed for ionising collisions, under too low pressure (too long mean free path) the number of ionising collisions is too small to sustain the plama. Furthermore, the mean free path length has a strong influence on the isotropy of etching processes: the higher the pressure, the shorter the free path length, the more isotropic is the material removal.