플라즈마 보조 화학 기상 증착의 약어. 탄화물과 질화물의 증착 등에 사용되는 코팅 방법이며, 플라즈마 없는 유사한 CVD 공정(1000°C)보다 훨씬 더 낮은 온도(450-500°C)로 수행된다.

Acronym for plasma assisted chemical vapour deposition. Coating method employed e. g. for the deposition of carbides and nitrides, involving significantly lower temperatures (450-500°C) than the analogeous CVD process without plasma (1000°C).