진공 펌프에 의해 용기에 진공이 생성된다. 약 0.1 mbar의 압력에서 공정 가스가 챔버에 유입된다. 제너레이터가 켜지고 공정 가스가 용기에서 이온화된다. 물질이 플라즈마에 노출된다. 새로운 공정 가스가 플라즈마 공정에 계속 공급되고 오염된 가스는 배출된다. 대체로 1-30분 사이의 처리 시간 이후 챔버가 통기되고 처리된 물질이 제거된다.

A vacuum is generated in a recipient with the aid of a vacuum pump. At a pressure of approx. 0,1 mbar process gas is introduced into the chamber. The generator is switched on and the process gas is ionised in the recipient. The material is exposed to the plasma. Fresh process gas is supplied continuously to the plasma process and contaminated gas is extracted. After treatment times which are as a rule between 1-30 min., the chamber is vented and the material treated is removed.