Si3N4, 비정질이고 경질이며 화학적 안정성을 갖춘 물질이며 수분과 알칼리성 이온에 대한 확산 장벽으로 사용된다. 플라즈마 CVD 공정에 의해서 SiH4와 NH3에서 생성되며, 반도체 기술에서 매우 중요하다.

Si3N4, amorphous, hard und chemically stable material employed as diffusion barrier against water and alkaline ions. Produced by plasma CVD process from SiH4 und NH3, very important in semiconductor technology.