기호 Si. 자연에 풍부하게 존재하는 반금속이며 전체 미소전자 산업의 토대를 이루고 있다.
IC의 제조는 코팅 공정과 플라즈마 식각 공정에 의해 이루어진다.
할로겐과 할로겐 함유(특히 불소 함유) 가스가 그러한 식각 공정에 적합한 공정 가스이다.

Symbol Si, semimetal with very high natural abundance, constituing the basis for the entire miroelectronic industry. The manufactue of ICs is accomplished by coating processes and plasma etching processes. Halogens and halogen-containing (especially fluorine-containing) gases are suitable processes gases for such etching processes.