플라즈마 공정에서, 특히 식각 공정에서 공정 가스로 자주 사용된다.
테트라플루오르메탄(CF4, 또는 프레온 14라고도 함)은 일반적 조건 하에서 완전히 불활성이지만, 플라즈마 공정 가스로 사용되면 자유 불소 원자와 CF2-래디칼 및 CF3-래디칼을 생성한다.
이러한 래디칼들은 이산화 규소 등에 대한 매우 강력한 식각 효과를 제공한다.
CF4와 산소의 혼합물은 순수 산소보다 다섯 배나 빠른 속도로 식각한다.

Often employed as process gas in plasma processes, in particular in etching processes. Tetrafluormethane (CF4, also designated Freon 14) is totally inert under usual conditions, but generates free fluorine atoms and CF2- and CF3-radicals when employed as plasma process gas. These radicals exert a very strong etching effect, e. g. on silicon dioxide. Mixtures from CF4 and oxygen etch five times as fast as pure oxygen.