자외선 방사. 가시광의 주파수보다 더 높은 주파수의 방사를 나타내는 용어.
자외선의 파장 범위는 4 - 400 nm 영역 내에 있다.
가시광 이외에도, 플라즈마의 여기 입자도 자외선을 방출하며, 이것은 때때로 특히 유기물 처리 시에 플라즈마의 활성화 및 세정 효과를 크게 높여 준다.

Ultraviolet radiation, designation for electromagnetic radiation with a frequency higher than that of visible light. The wavelength of UV radiation lies within the region of 4 – 400 nm. Beside visible light, excited particles in plasma also emit UV radiation, which sometimes contributes strongly to the activating and cleaning effect of plasma, especially in the treatment of organic material.