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플라즈마 장치

 

[ 저압 플라즈마 ]

   
 

저압 플라즈마는 다양한 표면처리 작업을 제공합니다. 오염된 부품의 세부 세정, 플라스틱 부품의 플라즈마 활성화, PTFE의 식각, 실리콘 그리고 PTFE와 유사한 플라스틱 부품 코팅이 이것의 주요 응용 분야입니다. 현재까지 재질연결 또는 표면성질 변경을 목적으로 하는 분야에서는 저압 플라즈마가 적용됩니다.


저압 플라즈마 기술에서 진공에 있는 가스는 에너지 주입을 통해 여기됩니다. 플라즈마 상태의 고에너지 이온과 전자 및 기타 반응 분자가 생성됩니다. 이렇게 하여 표면이 효과적으로 변하게 됩니다 세 가지의 플라즈마 효과를 구분할 수 있습니다.

저압 플라즈마는 다양한 표면처리 작업을 제공합니다. 오염된 부품의 세부 세정, 플라스틱 부품의 플라즈마 활성화, PTFE의 식각, 실리콘 그리고 PTFE와 유사한 플라스틱 부품 코팅이 이것의 주요 응용 분야입니다. 현재까지 재질의 연결 또는 표면성질 변경을 목적으로 하는 분야에서는 저압 플라즈마가 적용됩니다.

 

마이크로샌드블라스팅: 표면은 이온분사를 통해 침식됩니다.

화학반응: 이온화된 가스는 표면과 화학반응을 일으킵니다.

자외선: 자외선 카본의 긴 연결 고리를 끊습니다.

압력, 성능 , 공정 시간,가스 흐름과첨가물 등 공정 매개변수를 변경하여 플라즈마의 효과를 변화시킬 수 있습니다. 이렇게 하여 한 공정 단계에서 다양한 효과를 얻을 수 있습니다.
저압 플라즈마는 플라즈마 장치 타입 목록과 함께 개별 메뉴에서 찾을 수 있습니다.

디자인원칙
다양한디자인
제어장치
옵션/엑세
서리전자현미경
피라니진공측정장치

   
   
   
   
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