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플라즈마 장치 – 표준 장치
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[ NANO UHP]
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챔버 체적이 18리터이고 반자동으로 제어되는 소형 장치 NANO UHP는 대부분 다음 분야에서 사용됩니다.
- 소량일괄생산
- 분석기(REM, TEM)
- 전자 기술
- 의학 기술
- 플라스틱 기술
- 탄성 중합체 기술
- 연구 개발
UHP (초고순도) 이러한 표시는 당사 플라즈마 장치의 유리 수용체에 적용되는데, 이는 고객의 요구에 따라 붕규산 유리이거나 석영 유리일 수 있습니다. UHP 옵션이 포함될 수 있는 장치: Femto, Pico 및 Nano.
유리 챔버는 극초단파 장치 및/또는 초정밀 표면이 필요한 응용 분야에 사용됩니다. 일반적인 스테인레스 스틸 또는 알루미늄 챔버의 경우, 플라즈마 장치 내부 또는 처리 과정상의 모든 금속 처럼 약간의 소음이 날 수 있습니다. 대부분의 공정에서 이러한 현상은 중요하지 않으며 무시해도 됩니다. UHP 장치의 알루미늄 어셈블리는 AL2O3로 코팅되어 있습니다. 이 장치는 스테인레스 스틸을 수용할 수 없기 때문에 크롬, 니켈 및 철의 흔적이 깨지는 응용 분야에 적합합니다.
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기술 데이터:
배전반:
W 580 mm, H 650 mm, T 600 mm
챔버:
Ø 240 mm, L 400 mm
(옵션: L 600 mm)
챔버 개구부 Ø: 230 mm
재질: 석영 또는 붕규산 유리의 챔버 전면 벽 및 후면 벽: 알루미늄
챔버 체적:
약 18리터
가스 공급:
니들 밸브를 사용한 2개의 가스 채널
제너레이터:
40kHz/300W, 무단식
(옵션: 13.56 MHz o. 2.45 GHz)
진공 펌프:
Leybold, 타입 D8B (8 m³/h)
부품 유입:
1개의 제품 캐리어
제어장치:
반자동, 타이머를 사용한 공정 시간
옵션/엑세서리
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반자동으로 제어하는 소형 장치 NANO UHP: 세정, 활성화, 식각, 코팅
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힌지 도어를 장착하고 전자동으로 제어하는 소형 장치 NANO UHP:
세정, 활성화, 식각, 코팅 |
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전자동으로 제어하는 소형 장치 NANO UHP:
세정, 활성화, 식각, 코팅 |
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| 힌지 도어를 장착하고 전자동으로 제어하며 수동으로 일치시키고 온도 표시장치가 있으며 펌프가 통합된 소형 장치 NANO RF UHP: 세정, 활성화, 식각, 코팅용 |
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PCCE 로 제어하는 소형 장치 NANO UHP PCCE:
세정, 활성화, 식각, 코팅 |
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이 장치들에 대한 기술적인 사항에 관해서는 당사와 상담하십시오.
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