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플라즈마 – 표준 장치
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[ 플라즈마 시스템FEMTO UHP]
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반자동으로 제어되는 1,9리터테스트장비 FEMTO는 대부분 다음 분야에서 사용됩니다.
- 소량일괄생산
- 분석기(REM, TEM)
- 의학 기술
- 멸균
- 연구 개발 부서
- 고고학
- 섬유공학
- 반도체 기술
- 플라스틱 기술
UHP는Ultra High Purity의약자입니다. 고객의 요구에 따라 붕규산 유리 또는 석영 유리가 적용되는 저희 플라즈마 장치의 유리 진공 챔버는 이 표식에 해당됩니다. UHP 선택사항은 다음 장비에서만 가능합니다. Femto, Pico와 Nano.
고순도 표면이 필요한 분야에 사용되는 극초단파 장치를 위해 유리 챔버가 적용됩니다. 일반 스테인레스 및 알류미늄 챔버는 다른 플라즈마 장치의 철과 같이, 플라즈마 장치, 또한 처리물질, 최소량의 스포터를 발생합니다. 대부분의 공정에서는 의미가 없거나 무시할 수 있습니다.. UHP 장치의 알루미늄 부품은 AL2O3 로 코팅되어 있습니다.
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FEMTO 전망 (PDF 1007 KB)
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이 장치는 스테인레스 스틸을 수용할 수 없기 때문에 크롬, 니켈 및 철의 흔적이 깨지는 응용 분야에 적합합니다.
모든 플라즈마 장치는 다양한 종류와 조합하여 사용할 수 있습니다. 다음 개요는 일반적인 장비에 대한 주요 내용을 알 수 있도록 도움을 줍니다.
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기술 데이터:
플라즈마 장치 Femto UHP
배전반:
W 345 mm, H 220 mm, T 420 mm
챔버:
Ø 95 mm, L 270 mm, 개구부 Ø 90 mm
챔버 체적:
약 1.9리터
재질:
석영 또는 붕규산 유리의 챔버 전면 벽 및 후면 벽: 알루미늄
가스 공급:
니들 밸브를 통한 1개의 가스 채널
제너레이터:
40kHz/100W, 무단식
진공 펌프:
Leybold, 타입 S1.5 (1.5m³/h)
부품 유입:
1개의 제품 캐리어
제어장치:
수동, 타이머를 사용한 공정 시간
옵션/엑세서리
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소형 FEMTO UHP(버전 9) : 소형일괄생산의 공정 개발, 세정 ,
활성화, 식각
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기술 데이터:
플라즈마 장치 Femto UHP
(힌지 도어 장착)
배전반:
W 560 mm, H 310 mm, T 600 mm
챔버:
Ø 95 mm, L 270 mm, 개구부 Ø 90 mm
재질:
석영 또는 붕규산 유리의 챔버 전면 벽 및 후면 벽: 알루미늄
챔버 체적:
약 1.9리터
가스 공급:
니들 밸브를 통한 1개의 가스 채널
제너레이터:
40kHz/100W, 무단식
진공 펌프:
Leybold, 타입 S1.5 (1.5m³/h)
부품 유입:
1개의 제품 캐리어
제어장치:
수동, 타이머를 사용한 공정 시간
옵션/엑세서리
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소형 FEMTO UHP(버전 10) : 소형일괄생산의 공정 개발, 세정 ,
활성화, 식각
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Technische Daten:
Plasma System Femto UHP
배전반:
W 562 mm, H 211 mm, T 420 mm
챔버:
Ø 95 mm, L 270 mm, 개구부 Ø 90 mm
재질:
석영 또는 붕규산 유리의 챔버 전면 벽 및 후면 벽: 알루미늄
챔버 체적:
약 1.9리터
가스공급:
니들 밸브를 사용한 2개의 가스 채널
제너레이터:
40kHz/100W, 무단 조절가능
진공 펌프:
Leybold, 타입 S1.5 (1.5m³/h)
부품유입:
1개의 제품 캐리어
제어장치:
수동, 타이머를 사용한 공정 시간
압력측정장치:
Pirani
옵션/엑세서리
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소형 FEMTO UHP(버전 11) : 소형일괄생산의 공정 개발, 세정 ,
활성화, 식각
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플라즈마 장치 Femto-PC UHP
배전반:
W 500 mm, H 460 mm, T 550 mm
챔버:
Ø 95 mm, L 270 mm, 개구부 Ø 90 mm
재질:
석영 또는 붕규산 유리의 챔버 전면 벽 및 후면 벽: 알루미늄
챔버 체적:
약 1.9리터
가스공급:
각각 1개의 MFC를 사용한 3개의 가스 채널
제너레이터:
40 kHz/0-100 W
(옵션: 13.56 MHz o. 2.45 GHz)
진공 펌프:
Leybold, 타입 S1.5 (1.5m³/h)
부품유입:
1개의 제품 캐리어
제어장치:
Windows 기반의 PC 제어
( PC 제어에 대한 페이지 참조)
옵션/엑세서리
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소형 FEMTO-PC UHP(버전 12) : 소형일괄생산의 공정 개발, 세정,
활성화, 식각
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기술 데이터:
플라즈마 장치 Femto UHP
배전반:
W 320 mm, H 500 mm, T 420 mm
챔버:
Ø 95 mm, L 270 mm, 개구부 Ø 90 mm
재질:
석영 또는 붕규산 유리의 챔버 전면 벽 및 후면 벽: 알루미늄
챔버 체적:
약 1.9리터
가스공급:
니들 밸브를 사용한 2개의 가스 채널
제너레이터:
40kHz/100W, 무단 조절가능
진공 펌프:
Leybold, 타입 S1.5 (1.5m³/h)
부품유입:
1개의 제품 캐리어
제어장치:
수동, 타이머를 사용한 공정 시간
또는 자동
압력측정장치:
Pirani
옵션/엑세서리
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소형 FEMTO UHP(버전 13) : 소형일괄생산의 공정 개발, 세정,
활성화, 식각
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표시 가격은 확정적이지 않습니다. 이 장치들에 대한 기술적인 사항에 관해서는 당사와 상담하십시오.
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